浅谈影响氧化铈抛光作用的因素

       浅谈影响氧化铈抛光作用的因素：
　　1、抛光液料浆的pH值
　　在抛光过程中，由于玻璃表面不断的发生水解，在表面形成一层硅胶膜，抛光粉表面沉积了过多的硅胶层会使抛光作用下降。此时通过调节抛光浆料的pH值可以改良粉体性质，减少硅胶对抛光粉的覆盖，提高抛光性能。
　　2、氧化铈抛光粉的粒度及粒度分布
　　对玻璃表面粗糙度而言，减小抛光粉颗粒尺寸，利于降低粗糙度水平，提高表面质量。高质量的氧化铈抛光粉一般有较窄的粒度分布，颗粒分布均匀，无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面，而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。一般抛光光洁度要求较高时用粒度较小的抛光粉，而要求切削力较强、抛光的速度快，光洁度不高时用粒度较大的抛光粉。
　　3、抛光液的悬浮性
　　抛光液的悬浮性对其抛光作用有很大的影响。悬浮性差的抛光液，容易沉淀，导致抛光液中的颗粒分布不均匀，容易产生划痕，影响抛光质量。另外，由于参加抛光的粒子数量减少，也影响抛光的速度。
　　4、氧化铈抛光粉的颗粒形态
　　氧化铈颗粒形态对材料除去效率和表面质量也有影响，带有棱角、良好结晶度和平板结构的抛光粉的抛光效率高，而钝化颗粒或球形化颗粒的抛光效率低，但可获得高的表面质量。
　　5、氧化铈抛光粉的纯度
　　对于高铈抛光粉VK-Ce02来说，氧化铈的纯度越高，抛光能力越好，使用寿命也越长，硬质玻璃长时间抛光时，适宜选择纯度较高的氧化铈抛光粉。

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